Plagát Culture to Technology Identity je plagát navrhnutý na vystavenie vo svetelných paneloch autobusových zastávok. V hornej časti je čínsky znak pre Anhui zarámovaný klasickými kontúrami architektúry Huizhou, ktoré pripomínajú regionálnu históriu a kultúru. Znak sa postupne premieňa na elektronický obvod, ktorý končí štyrmi čínskymi znakmi pre Hefei High Tech. Plagát má rozmery 60 x 90 centimetrov. Gradientné modré tóny sú vytlačené pretlačou priamych farieb a línie obvodu sú pokryté lokálnym UV lakom pre reliéfny efekt.

Názov projektu : Culture to Technology Identity, Meno dizajnérov : Lei Wang, Meno klienta : Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD..

Prečítajte si najnovšie rozhovory a rozhovory o dizajne, tvorivosti a inováciách medzi dizajnovým novinárom a svetoznámymi dizajnérmi, umelcami a architektmi. Prezrite si najnovšie dizajnérske projekty a ocenené návrhy slávnych návrhárov, umelcov, architektov a inovátorov. Objavte nové poznatky o tvorivosti, inováciách, umení, dizajne a architektúre. Dozviete sa o procesoch dizajnu veľkých dizajnérov.