Plagát Culture to Technology Identity je plagát navrhnutý na vystavenie vo svetelných paneloch autobusových zastávok. V hornej časti je čínsky znak pre Anhui zarámovaný klasickými kontúrami architektúry Huizhou, ktoré pripomínajú regionálnu históriu a kultúru. Znak sa postupne premieňa na elektronický obvod, ktorý končí štyrmi čínskymi znakmi pre Hefei High Tech. Plagát má rozmery 60 x 90 centimetrov. Gradientné modré tóny sú vytlačené pretlačou priamych farieb a línie obvodu sú pokryté lokálnym UV lakom pre reliéfny efekt.

Názov projektu : Culture to Technology Identity, Meno dizajnérov : Lei Wang, Meno klienta : Hefei High Tech Digital Technology Co., LTD..

Niekedy potrebujete veľmi veľký tím talentovaných dizajnérov, ktorí prídu so skutočne skvelými návrhmi. Každý deň máme jedinečný ocenený inovatívny a kreatívny dizajnový tím. Preskúmajte a objavte originálnu a kreatívnu architektúru, dobrý dizajn, módu, grafický dizajn a projekty projektovej stratégie od dizajnérskych tímov z celého sveta. Nechajte sa inšpirovať originálnymi dielami veľkých majstrov.